涂胶显影设备

8 & 6 inch 或兼容

  • 适用晶圆尺寸:8&6inch 或兼容
  • 设备尺寸:1850*1700*2600mm(Single block)
    3110*1700*2500mm(Open型 daul block )
  • 翘曲度:±1mm
  • 应用领域:硅基,碳化硅,氮化镓,滤波器,砷化镓,先进封装等领域。

产品优势:

  1. 叠加式模块化布局,单位面积产出优势
  2. 全栈自研架构,软件源代码自主可靠,深度对接客户IT,开放更多数据接口
  3. 特色基底/厚胶工艺原生优化,
  4. 完美匹配国内功率、第三代半导体、先进封装产线需求
  5. 核心零部件国产化率高,成本显著降低,全生命周期TCO优势明显
  6. 配置高度定制化,客户自主选择性高
  7. 双手臂分担负载,疲劳风险相对更低
  8. 不需额外配置Aligner对中单元,传输精度、灵活度可靠性更高
  9. 腔体流场和压力环境控制稳定,减少厚胶缺陷风险
  10. 全方位服务保障(本地化服务、主动式维护)

技术参数:

  1. 转速范围:0-6000rpm
  2. 加速度范围:0-50000rpm/sec
  3. 转速精度:±1rpm
  4. 热盘温度范围:50-200℃
  5. 热盘温度均匀性:
    50.0℃ ~ 120.0℃ : Range ≤ 0.4℃
    120.1℃ ~ 150.0℃ : Range ≤ 0.8℃
    150.1℃ ~ 200.0℃ : Range ≤ 1.2℃
  6. 冷盘温度范围:20-30℃
  7. 冷盘温度均匀性:±0.2℃
  8. 适用光刻胶:Max:20000CP
  9. 胶泵类型:Cylinder/Motor Type pump
  10. 光刻胶或显影液管路:PFA
  11. 流量监控:Flowmeter+对射sensor/Finflow/超声波流量计

自主研发

  • 运行软件
  • 机械传送
  • 电路模块
  • 涂显单位
化合物半导体

工艺能力:> 0.18um产品:砷化镓(GaAs) ,氮化镓(GaN),碳化硅(SiC), 滤波器 (Filter)

微机半导体

工艺能力:> 0.18um产品:MEMS

硅基半导体

工艺能力:> 90nm产品:IGBT ,CMOS ,MPU ,MCU,DSP,RAM,ROM,Flash ,